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光刻机巨头回应荷兰出口管制新规

日期:2023年07月01日 20:06 来源:观察者网 作者:佚名


【文/观察者网 吕栋】 6月30日晚间,荷兰光刻机巨头ASML在向观察者网提供的一份声明中称,荷兰政府于今日颁布了有关半导体设备出口管制的新条例。正如其在今年三月发布的消息中所述,这些新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。

ASML表示,根据新出口管制条例规定,该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(即TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将向ASML提供许可证所附条件的细节。

ASML在声明中重点指出,荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统(DUV,深紫外光刻)。而该公司的EUV光刻(极紫外光刻)系统在此前已经受到限制,其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。

“ASML将继续遵守适用的出口管制条例,其中包括荷兰、欧盟及美国的出口管制条例。”

这家光刻机巨头称,荷兰政府新颁布的出口管制条例将于2023年9月1日生效,在此日期前,ASML可开始提交出口许可证申请,荷兰政府将视具体情况批准或拒绝这些申请。

当地时间周五(6月30日),荷兰政府正式宣布限制某些先进半导体设备出口的新规,这些规定将于9月1日生效。具体而言,荷兰政府将要求先进芯片制造设备的公司在出口之前须获得许可证。尽管荷兰政府并未直接点名会受到限制的公司,但外界都明白这是在针对当地最出名的半导体设备公司ASML。

荷兰方面这一动作其实早有迹象。今年3月,荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔(Liesje Schreinemacher)就曾向荷兰议员宣称,“鉴于技术发展和地缘政治背景,政府得出结论,为了(国际)国家安全,有必要扩大对特定半导体制造设备的现有出口管制。”

彼时ASML就曾发布声明称,新出口管制并不适用于所有的浸润式光刻系统,而只适用于所谓“最先进的”,并且这些管控措施转化为立法并生效还需要时间。ASML所谓“最先进的”DUV,是指TWINSCAN NXT:2000i和后续推出的浸润式系统。

这也意味着,ASML生产的TWINSCAN NXT:1980Di等更成熟的浸润式DUV机型不在受限范围。

观察者网查询方正证券2020年6月发布的研报发现,TWINSCAN NXT:2000i DUV(双工作台深紫外光刻机)曾是ASML最先进的浸没式光刻系统,也是EUV光刻机之前的重要过渡产品,同时是后期7nm/5nm产能的重要补充。这种机型在2018年就已开始出货,被视为可用于生产7nm等制程(多次曝光)。

ASML官网显示,TWINSCAN NXT:2000i专为与EUV混合使用而设计,可为高级逻辑和DRAM节点的大批量制造提供出色的覆盖、聚焦控制和交叉匹配。比这款光刻机更先进的型号是TWINSCAN NXT:2050i,该系统满足多种图案化要求,为在高级逻辑和DRAM节点制造300毫米晶圆提供经济高效的解决方案。

在先后两次声明中,这家荷兰光刻机巨头提到,主要关注成熟制程的客户,可以使用不太先进的浸润式光刻工具,“我们认为这些管制条例不会对已发布的2023年财务展望以及于2022年11月投资者日宣布的长期展望产生重大影响”。

但不能自由出货,ASML在华收入将不可避免受到干扰。该公司预计2023年中国大陆销售额将保持在22亿欧元左右(约合人民币162亿元),而全球总销售额将增长25%,因为主要客户台积电和英特尔都在扩产。

根据ASML财报,2022年该公司共出货345台光刻系统,其中有81台浸润式DUV光刻机(ArFi),占比为23%。所有产品中,42%销往中国台湾,29%销往韩国,14%销往中国大陆,销往美国的只有7%。

在荷兰政府宣布新的半导体出口管制条例后,中国驻荷兰大使馆6月30日很快做出回应:荷兰政府正式出台半导体制造设备的出口管制措施,这是对出口管制措施的滥用,是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离,中方对此坚决反对。

“我们呼吁荷方从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发,立即纠正错误做法。中方将坚决维护自身合法权益。同时,也愿与荷方一道,本着互利互惠的原则,共同探讨解决方案,共同推动中荷经贸关系健康发展。”中国驻荷兰大使馆发言人表示。

ASML方面也早就对出口管制做出过警示。今年2月,在接受欧洲媒体采访时,ASML首席执行官温彼得直言,如果美国及其盟友切断中国(大陆)获得某些半导体和半导体制造技术的渠道,中国将被迫加倍努力开发自主技术。他坦言,虽然出口管制是合法工具,但不应该被滥用,决策者在“摆弄”半导体供应链之前应充分了解它的复杂性。

原标题:光刻机巨头ASML回应荷兰出口管制新规:只涉及部分DUV


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